一种低压等离子喷涂TiN涂层的方法

摘要

本发明提供一种低压等离子喷涂TiN涂层的方法。步骤是在低压条件下，采用高功率等离子喷枪喷涂Ti粉，以氮气作为等离子工作气体和反应气体，实现等离子体喷涂‑物理气相沉积TiN涂层。本发明制备的TiN涂层为柱状结构，其成分纯度高，晶粒细小，组织致密，可有效改善工件表面性能。涂层与工件之间存在渗氮层，可有效提高涂层与工件的结合强度。本发明工艺简单，沉积效率高，适用于大面积快速喷涂TiN涂层。