一种延长ALD真空计使用寿命的方法

摘要

本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种延长原子层沉积设备真空计使用寿命的方法。本发明通过对ALD系统中的真空计电磁阀进行间断关闭的方法，在保证系统真空度的基础上，减少前驱体气体和反应副产物进入真空计内部，从而减少前驱体气体和反应副产物在真空计内部的附着，进一步可以延长ALD真空计使用寿命，同时，该方法是在未改变现ALD设备硬件的基础上进行了技术改进，减少设备的维护成本，技术含量高，应用前景良好。同时，该方法是在未改变现ALD设备硬件的基础上进行了技术改进，减少设备的维护成本，技术含量高，应用前景良好。