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一种磁性隧道结顶电极连接孔的形成方法

摘要

本发明提供了一种磁性隧道结顶电极连接孔的形成方法,步骤如下:S1.提供包括底电极、第一电介质层、MTJ结构单元,钽顶电极的衬底;步骤S2.采用氮化硅填充衬底剩余部分;S3.磨平氮化硅直到钽顶电极;S4.沉积氧化硅膜层、顶电极连接孔刻蚀阻挡层和第二电介质层;S5.图形化转移顶电极连接孔图案到第二电介质层;S6.刻蚀所述第二电介质层,并去掉在图形化转移过程中残留的有机物,使图案转移到所述刻蚀阻挡层;S7.对刻蚀阻挡层进行刻蚀;S8.刻蚀氧化硅层;S9.去掉残留的有机物;S10.在顶电极连接孔内壁形成扩散阻止层;S11.采用铜填充顶电极连接孔,并采用化学机械抛光的方法磨平填充物。

著录项

  • 公开/公告号CN107492518B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海磁宇信息科技有限公司;

    申请/专利号CN201610407810.8

  • 发明设计人 张云森;肖荣福;

    申请日2016-06-12

  • 分类号

  • 代理机构上海容慧专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人于晓菁

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路235号二号楼二层

  • 入库时间 2022-08-23 10:38:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-13

    授权

    授权

  • 2018-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20160612

    实质审查的生效

  • 2018-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20160612

    实质审查的生效

  • 2017-12-19

    公开

    公开

  • 2017-12-19

    公开

    公开

  • 2017-12-19

    公开

    公开

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