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占领图形填充方法

摘要

本发明公开了一种占领图形填充方法,包括如下步骤:步骤一、根据图形数据占比率要求值和图形隔离规则确定占领图形的填充规则;步骤二、在版图中找出需要进行占领图形填充的空白区域;步骤三、按照占领图形的填充规则在版图的空白区域进行占领图形填充。本发明能实现占领图形的智能填充,使占领图形填充后的图形数据占比率无限逼近要求值。

著录项

  • 公开/公告号CN106096087B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201610373502.8

  • 发明设计人 陈华伦;孔蔚然;

    申请日2016-05-31

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭四华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 10:37:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-13

    授权

    授权

  • 2016-12-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160531

    实质审查的生效

  • 2016-12-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160531

    实质审查的生效

  • 2016-11-09

    公开

    公开

  • 2016-11-09

    公开

    公开

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