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一种在非晶基带表面制备双轴织构NaCl薄膜的方法

摘要

本发明属于多晶薄膜领域,提供一种在非晶基带表面制备双轴织构NaCl薄膜的方法;首先Hastelloy合金基带进行溶液平坦化沉积得到表面沉积有非晶氧化钇的基带,然后采用离子束辅助沉积在基带表面制备得一层IBAD‑NaCl薄膜,最后再沉淀一层自外延NaCl层。本发明在经过溶液平坦化处理得到的哈氏合金非晶层表面制备出具有双轴织构的NaCl薄膜,该方法制备得薄膜不仅具有优秀的面内外织构,质量已经非常接近单晶,而且工艺简单,无毒害,成本低廉,适合大规模工业化应用。

著录项

  • 公开/公告号CN106893973B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201710156286.6

  • 申请日2017-03-16

  • 分类号

  • 代理机构电子科技大学专利中心;

  • 代理人甘茂

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 10:35:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-21

    授权

    授权

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/02 申请日:20170316

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/02 申请日:20170316

    实质审查的生效

  • 2017-06-27

    公开

    公开

  • 2017-06-27

    公开

    公开

  • 2017-06-27

    公开

    公开

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