保护膜覆盖方法和保护膜覆盖装置

摘要

本发明提供保护膜覆盖方法和保护膜覆盖装置。包括：晶片保持工序，将晶片正面朝上地保持于旋转工作台；液态树脂滴下工序，将液态树脂滴下至晶片的正面中央区域；水层形成工序，对在正面中央区域滴下有液态树脂的晶片供给水而在整个正面上形成水层；液态树脂扩散工序，使旋转工作台旋转，随着晶片旋转，作用于水层的离心力使得水层飞散，液态树脂扩散而在整个正面形成薄的保护膜层；液态树脂供给工序，旋转工作台以比液态树脂扩散工序慢的速度旋转，并向整个正面供给比液态树脂滴下工序多的量的液态树脂；以及保护膜形成工序，旋转工作台以比液态树脂供给工序快的速度旋转，随着晶片旋转，作用于液态树脂的离心力使液态树脂扩张而在整个正面形成保护膜。