法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-31
授权
授权
2016-06-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M1/38 申请日:20140826
实质审查的生效
2016-06-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M 1/38 申请日:20140826
实质审查的生效
2015-01-28
公开
公开
2015-01-28
公开
公开
机译: OPC(光学邻近修正)模型创建方法,OPC模型创建程序,OPC模型创建设备,曝光设备调整方法,曝光设备调整程序,曝光设备调整设备,半导体制造商,制造商,制造商,制造商,制造商,制造商,制造商,制造商,制造商,制造商
机译: 用于接收和使用假牙模型的假牙结构和模型支持以及制作该模型的方法,一个模型或一个模型牙齿组包括该模型,一种用于重置模型工具包的模型,方法以及用于制造调整夹板或模型的装置调整夹板套件和调整夹板
机译: 用于接收和使用假牙模型的假牙结构和模型支持以及制作该模型的方法,一个模型或一个模型牙齿组包括该模型,一种用于重置模型工具包的模型,方法以及用于制造调整夹板或模型的装置调整夹板套件和调整夹板