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用于等离子体切割的接近接触盖环

摘要

用于切割半导体晶片的方法与载体,每个晶片具有多个集成电路。在一个示例中,用于在蚀刻工艺期间保护载体与基板组件的一种盖环包括内部开孔,内部开孔具有直径,所述内部开孔的直径小于载体与基板组件的基板的直径。外部框体围绕内部开孔。外部框体具有用于容纳载体与基板组件的基板的最外部分的斜面。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-07

    授权

    授权

  • 2017-10-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20150826

    实质审查的生效

  • 2017-10-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20150826

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

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