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正电子发射断层成像系统有源模体定位方法

摘要

本发明提供一种利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法,包括:使用该正电子发射断层成像系统进行数据采集,获取该有源模体的重建图像;选择重建图像中穿过有源模体部分图像的任一截面,沿任一方向获取该截面的灰度轮廓曲线;根据该灰度轮廓曲线选取阈值,并基于该阈值对该重建图像进行二值化处理;根据二值化处理后的重建图像获取该有源模体的中心位置。本发明不依赖于精确且计算量大的图像重建过程,易于实现且定位精度较高。

著录项

  • 公开/公告号CN106333701B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海联影医疗科技有限公司;

    申请/专利号CN201610875143.6

  • 发明设计人 邓子林;卢洁;

    申请日2016-09-30

  • 分类号A61B6/03(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201807 上海市嘉定区嘉定工业区城北路2258号

  • 入库时间 2022-08-23 10:33:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    授权

    授权

  • 2019-04-12

    著录事项变更 IPC(主分类):A61B 6/03 变更前: 变更后: 申请日:20160930

    著录事项变更

  • 2019-04-12

    著录事项变更 IPC(主分类):A61B 6/03 变更前: 变更后: 申请日:20160930

    著录事项变更

  • 2017-02-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/03 申请日:20160930

    实质审查的生效

  • 2017-02-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/03 申请日:20160930

    实质审查的生效

  • 2017-02-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/03 申请日:20160930

    实质审查的生效

  • 2017-01-18

    公开

    公开

  • 2017-01-18

    公开

    公开

  • 2017-01-18

    公开

    公开

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