一种用于真空腔室磁控溅射的装置的使用方法

摘要

一种用于真空腔室磁控溅射的装置，其包括轴线重合的顺序连接的可旋转的第一大齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的遮挡盘，所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘，所述自转样片盘的轴线在以所述公转支撑盘的轴线为中心的一个圆周上，所述自转样片盘设置有与所述第一大齿轮啮合的自转齿轮，所述遮挡盘在所述自转样片盘上方，所述遮挡盘设置有至少一个加工口，所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方，所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。本发明提供的一种用于真空腔室磁控溅射的装置的使用方法，可以一次放入多个样品，做多次不同工艺参数的实验，从而大大提高实验效率。