首页> 中国专利> 一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法

一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法

摘要

本发明涉及一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法,步骤为:采用光腔衰荡技术,先测量初始光腔的衰荡信号并拟合得到初始光腔的衰荡时间。然后加入待测高反射/高透射光学元件形成稳定测试光腔,分别测量从待测光学元件输出和输出腔镜输出的衰荡信号并拟合得到测试光腔的衰荡时间,经计算得到高反射光学元件的反射率或高透射光学元件的透过率;同时将待测光学元件输出的光腔衰荡信号幅值与输出腔镜输出的光腔衰荡信号幅值进行比值计算,通过定标得到高反射光学元件的透过率或高透射光学元件的反射率。该测量方法不仅可测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率,而且可对其反射率和透过率分布实现高分辨率二维成像。

著录项

  • 公开/公告号CN106556576B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201610972470.3

  • 发明设计人 李斌成;崔浩;王静;

    申请日2016-11-04

  • 分类号G01N21/55(20140101);G01N21/59(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 611731 四川省成都市成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 10:29:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-02

    授权

    授权

  • 2017-05-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/55 申请日:20161104

    实质审查的生效

  • 2017-05-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/55 申请日:20161104

    实质审查的生效

  • 2017-04-05

    公开

    公开

  • 2017-04-05

    公开

    公开

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