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在金属箔基底上可控制备低维金属氧化物纳米材料的方法

摘要

在金属箔基底上可控制备低维金属氧化物纳米材料的方法,涉及金属氧化物纳米材料。通过等离子体方法在金属箔表面生长出纳米材料,并通过控制温度和通入气体的比例来控制纳米材料的生长。具体步骤:将金属箔打磨去除表面氧化物并清洗后,放入反应装置中并抽真空,然后升温,再通入氩气与氧气并通过两端的电极进行辉光放电,辉光放电结束后,待反应装置冷却到室温便可获得低维金属氧化物纳米材料。可适用于多种不同金属;由能够使得反应物分子实现有效激发、离解和电离,使得反应体系能够在低温下快速进行;可以降低反应温度和减少反应时间。所需加热温度低,反应时间短,可有效降低能耗;工艺简单,成本低廉;生产出的纳米材料形貌可控,质量高。

著录项

  • 公开/公告号CN106591770B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门大学;

    申请/专利号CN201611080557.6

  • 发明设计人 程其进;郭斌;渠亚洲;林冠华;

    申请日2016-11-30

  • 分类号C23C8/36(20060101);C23C8/12(20060101);

  • 代理机构35200 厦门南强之路专利事务所(普通合伙);

  • 代理人马应森

  • 地址 361005 福建省厦门市思明南路422号

  • 入库时间 2022-08-23 10:26:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-22

    授权

    授权

  • 2017-05-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C8/36 申请日:20161130

    实质审查的生效

  • 2017-05-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 8/36 申请日:20161130

    实质审查的生效

  • 2017-04-26

    公开

    公开

  • 2017-04-26

    公开

    公开

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