法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-15
授权
授权
2018-05-11
著录事项变更 IPC(主分类):G02B27/58 变更前: 变更后: 申请日:20160627
著录事项变更
2018-05-11
著录事项变更 IPC(主分类):G02B 27/58 变更前: 变更后: 申请日:20160627
著录事项变更
2016-12-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B27/58 申请日:20160627
实质审查的生效
2016-12-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 27/58 申请日:20160627
实质审查的生效
2016-12-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 27/58 申请日:20160627
实质审查的生效
2016-10-12
公开
公开
2016-10-12
公开
公开
2016-10-12
公开
公开
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机译: 使用成像光学系统的曝光方法,具有成像光学系统的曝光设备,使用该曝光设备的微器件制造方法以及成像光学系统
机译: 高分辨率成像设备,用于通过红外成像检测缺陷
机译: 高分辨率成像设备,用于通过红外成像检测缺陷