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优化SONOS存储器设定值提高产品良率的方法

摘要

本发明公开了一种优化SONOS存储器设定值提高产品良率的方法,该方法通过在芯片筛选后对VT不满足规格的失效芯片进行部分设定值的优化调整来降低VT失效率,从而提高产品良率。该方法在既不改变存储器单元器件产品的规格,也不影响产品的可靠性的前提下,有效降低VT失效率,并显著提高产品良率,同时优化了VT的分布。

著录项

  • 公开/公告号CN106128968B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201610424753.4

  • 申请日2016-06-16

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人王函

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 10:23:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-04

    授权

    授权

  • 2016-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20160616

    实质审查的生效

  • 2016-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20160616

    实质审查的生效

  • 2016-11-16

    公开

    公开

  • 2016-11-16

    公开

    公开

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