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自动确定多个X射线源的X射线辐射的谱分布

摘要

本发明涉及一种用于自动确定计算机断层成像系统(10)的多个X射线源(100a,100b)的X射线辐射(R1,R2)的谱分布的方法。在此首先确定X射线源(100a,100b)的起始控制参数(ANORM,UNORM),其确定X射线辐射的剂量和谱分布。然后基于X射线辐射(R1,R2)通过检查对象(O)的预计衰减,从起始控制参数(ANORM,UNORM)出发,确定特定于检查对象的基本控制参数(APAT)。然后基于X射线辐射(R1,R2)通过检查对象(O)的预计衰减和基本控制参数(APAT),确定第一目标控制参数(AMES1,UMES1)和第二目标控制参数(AMES2,UMES2),用于设置在随后的对检查对象(O)的多能量测量中的X射线辐射(R1,R2)的谱分布。此外描述了一种用于运行计算机断层成像系统(10)的方法、一种用于计算机断层成像系统(10)的为此合适的控制装置(200)以及一种具有这样的控制装置(200)的计算机断层成像系统(10)。

著录项

  • 公开/公告号CN104519800B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西门子公司;

    申请/专利号CN201380042474.6

  • 发明设计人 T.奥尔门丁格;T.弗洛尔;B.施密特;

    申请日2013-09-11

  • 分类号A61B6/03(20060101);A61B6/00(20060101);H01J35/00(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人谢强

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 10:22:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-30

    授权

    授权

  • 2015-05-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/03 申请日:20130911

    实质审查的生效

  • 2015-05-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/03 申请日:20130911

    实质审查的生效

  • 2015-04-15

    公开

    公开

  • 2015-04-15

    公开

    公开

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