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测量目标结构的属性的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法

摘要

基于目标的图像的强度测量目标结构的属性。方法包括(a)获得目标结构的图像;(b)限定(1204)多个候选感兴趣区域,各候选感兴趣区域包括在图像中的多个像素;(c)至少部分基于在感兴趣区域内的像素的信号值来限定(1208,1216)用于候选感兴趣区域的优化度量值;(d)限定(1208,1216)目标信号函数,目标信号函数限定了图像中的各像素对目标信号值的贡献。各像素的贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值。

著录项

  • 公开/公告号CN107077079B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201580058279.1

  • 申请日2015-08-20

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;吕世磊

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 10:22:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-14

    授权

    授权

  • 2017-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150820

    实质审查的生效

  • 2017-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150820

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

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