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一种多层薄膜电容器的无掩膜制备方法

摘要

本发明公开了一种多层薄膜电容器的无掩膜制备方法。该方法先配制纳米金属粉体浆料或采用溶胶凝胶法制备非金属导电氧化物胶体,并均匀涂覆在基片上,然后通过可控温度的红外光斑对基片定向扫描加热,从而使浆料或胶体在干燥、挥发过程中发生定向收缩并形成初始电极图案,最后采用激光光斑加热,使金属电极材料发生表面粘结或使非金属导电氧化物结晶并形成清晰的电极图案最后采用溶胶凝胶法或溅射法制备介质薄膜,再按上述方法在介质薄膜上制备电极薄膜,并利用定向扫描加热使第二层电极与底电极形成错层,重复上述步骤制成具有叉指结构的多层薄膜电容器。本发明无需使用掩膜或光刻技术即可实现多层薄膜电容器的制备,具有成本低,工艺控制简单的特点。

著录项

  • 公开/公告号CN105097276B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林电子科技大学;

    申请/专利号CN201510449224.5

  • 发明设计人 徐华蕊;朱归胜;

    申请日2015-07-28

  • 分类号

  • 代理机构广西南宁汇博专利代理有限公司;

  • 代理人邹超贤

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市金鸡路一号

  • 入库时间 2022-08-23 10:19:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-12

    授权

    授权

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01G4/005 申请日:20150728

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01G 4/005 申请日:20150728

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    公开

    公开

  • 2015-11-25

    公开

    公开

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