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EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统

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一种EUV投射光刻的照明光学系统(26)，用于将照明光(16)引导至照明场(5)，该照明场中可布置光刻掩模(7)。具有多个分面(25)的分面反射镜(19)用于将照明光(16)引导至照明场(5)。分面(25)中的每一个指定相应照明通道(27)，其引导照明光子束。正好一个照明通道(27)通过各个分面(25)引导。照明光学系统(26)设计为使得在照明光学系统(26)运行期间，在照明场(5)的每一个点处的每一个时刻，利用不同照明通道(27)引导的任意对照明光子束在时差(Δt)大于照明光(16)的相干时间τ

著录项

公开/公告号CN104246617B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-09-25

原文格式PDF
申请/专利权人卡尔蔡司SMT有限责任公司;
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申请/专利号CN201380021048.4
发明设计人 M.帕特拉;M.德冈瑟;
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申请日2013-03-04
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址德国上科亨
入库时间 2022-08-23 10:17:42

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-09-25

授权

授权
2015-04-08

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20130304

实质审查的生效
2015-04-08

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130304

实质审查的生效
2014-12-24

公开

公开
2014-12-24

公开

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专利
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外文文献

1. EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P] . 中国专利： CN104246617B . 2018.09.25
2. EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置 [P] . 中国专利： CN102365587B . 2015.07.22
3. Imaging optical system, projection illumination unit for microlithography with such an optical system, method for manufacturing a microstructured component with such a projection illumination unit, microstructured component produced by the manufacturing method and use of such an optical system [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1950594A1 . 2008-07-30

机译：成像光学系统，具有这种光学系统的用于微光刻的投射照明单元，具有这种投射照明单元的微结构部件的制造方法，通过该制造方法制造的微结构部件以及这种光学系统的用途
4. Illumination optical unit for EUV projection lithography and optical system including such illumination optical unit [P] . 日本专利： JP6369906B2 . 2018-08-08

机译：用于EUV投影光刻的照明光学单元和包括该照明光学单元的光学系统
5. Illumination optical unit for EUV projection lithography, and optical system comprising such an illumination optical unit [P] . 美国专利： US9645501B2 . 2017-05-09

机译：用于EUV投影光刻的照明光学单元以及包括这种照明光学单元的光学系统