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一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法

摘要

本发明公开了一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法,该系统包括发射部分和接受部分,发射部分包括第一转向反射光学元件,接受部分包括第二转向反射光学元件和探测器,一部分测量光束经过第一转向反射光学元件后以零入射角直接射入第二转向反射光学元件,最终到达探测器,另一部分测量光束经过被测对象反射后射入第二转向反射光学元件,最终到达探测器,两部分测量光束在探测器上分别成像以实现调焦调平系统的自参考功能。本发明通设置第一转向反射光学元件和第二转向反射光学元件,对两部分测量光束的入射角进行调节,使其经过不同的光路成像到探测器上,实现了系统的自参考功能,提高了系统的测量精度。

著录项

  • 公开/公告号CN105807571B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN201410854254.X

  • 发明设计人 唐平玉;王海江;张启天;

    申请日2014-12-31

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 10:15:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-24

    授权

    授权

  • 2017-09-05

    著录事项变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20141231

    著录事项变更

  • 2016-08-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20141231

    实质审查的生效

  • 2016-07-27

    公开

    公开

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