首页> 中国专利> 二维光子晶体光复用器/解复用器

二维光子晶体光复用器/解复用器

摘要

一种光复用器/解复用器,其可以具有较小的尺寸和更高的Q因数或效率。通过以下结构达到该目的。在平板形主体11中,具有低于主体11的材料的折射率的低折射率区12周期地排列,以构造二维光子晶体,其中通过不线性地打孔12形成波导13。通过不在位于波导13邻近的两个或多个格点处打孔,形成施主型簇缺陷14。利用该结构,只有在传播通过波导13的光中包括的特定光波长才在施主型簇缺陷14处共振,且这样俘获的光被释放到外部(解复用)。相反,只有特定的光波长可以通过施主型簇缺陷14被引入波导13中(复用)。

著录项

  • 公开/公告号CN1297829C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-01-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 独立行政法人科学技术振兴机构;

    申请/专利号CN03806872.9

  • 发明设计人 野田进;望月理光;浅野卓;

    申请日2003-03-26

  • 分类号G02B6/12(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人朱进桂

  • 地址 日本埼玉县

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 6/12 授权公告日:20070131 终止日期:20170326 申请日:20030326

    专利权的终止

  • 2007-01-31

    授权

    授权

  • 2007-01-31

    授权

    授权

  • 2005-09-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-09-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-20

    公开

    公开

  • 2005-07-20

    公开

    公开

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