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用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法

摘要

用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法被提供。掩模组件包括用于形成开口的框架和在张力被施加到其上时被固定到框架并形成多个图案开口的掩模。框架包括用于形成开口的框架主体和被安装在框架主体上沿至少一个方向可移动的多个移动构件。掩模在张力被施加到其上时被固定到移动构件。

著录项

  • 公开/公告号CN103866229B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN201310665412.2

  • 发明设计人 韩政洹;

    申请日2013-12-10

  • 分类号C23C14/04(20060101);H01L51/56(20060101);

  • 代理机构11018 北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人李文颖;周艳玲

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 10:14:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-07

    授权

    授权

  • 2015-12-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20131210

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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