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(Mg,Cd)In2O4/MgAl2O4复合衬底材料及其制备方法

摘要

一种(Mg,Cd)In2O4/MgAl2O4复合衬底的材料及其制备方法,该复合衬底材料是在MgAl2O4单晶上设有一层(Mg,Cd)In2O4覆盖层构成。该复合衬底材料的制备方法是:用脉冲激光淀积方法在MgAl2O4(111)单晶衬底上形成(Mg,Cd)In2O4覆盖层,通过退火工艺处理,在MgAl2O4(111)单晶衬底得到晶化的(Mg,Cd)In2O4(111)薄膜。本发明的复合衬底材料的制备工艺简单,易操作,此种结构的复合衬底[(Mg,Cd)In2O4/MgAl2O4]适合于高质量GaN的外延生长。

著录项

  • 公开/公告号CN1295747C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200410067133.7

  • 申请日2004-10-13

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L33/00(20060101);H01S5/00(20060101);

  • 代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人张泽纯

  • 地址 201800 上海市800-211邮政信箱

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 授权公告日:20070117 终止日期:20101013 申请日:20041013

    专利权的终止

  • 2007-01-17

    授权

    授权

  • 2005-06-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-30

    公开

    公开

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