首页> 中国专利> 为快速电可擦除可编程只读存储器单元形成相对于有源区自对准的浮动栅多晶硅层的方法

为快速电可擦除可编程只读存储器单元形成相对于有源区自对准的浮动栅多晶硅层的方法

摘要

本发明涉及用于在电可编程和可擦除存储器件中隔离有源区的方法和设备。在衬底上形成第一绝缘材料层。在第一绝缘材料层上形成导电材料层。多个间隔开的沟槽通过第一绝缘材料层和导电材料层并进入到衬底中。第二绝缘材料层形成在沟槽的侧壁部分上。在沟槽中形成绝缘材料块。对于每个沟槽,导电材料层的边缘部分以预定的距离Δ与第一绝缘材料层和可能的绝缘材料块的一部分重叠并在其上延伸。对于每个沟槽,预定的距离Δ是如此选择的:在对衬底和导电层进行后段处理后,导电材料层的边缘部分对准隔离沟槽的侧壁部分。

著录项

  • 公开/公告号CN1290171C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-12-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅存储技术公司;

    申请/专利号CN01137905.7

  • 发明设计人 C·H·王;

    申请日2001-09-19

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王勇

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/76 授权公告日:20061213 终止日期:20180919 申请日:20010919

    专利权的终止

  • 2006-12-13

    授权

    授权

  • 2006-12-13

    授权

    授权

  • 2004-04-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-04-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-11-06

    公开

    公开

  • 2002-11-06

    公开

    公开

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