核素轰击的靶、轰击系统和方法

摘要

本公开涉及核素轰击系统及方法以及用于核素轰击的靶及其形成方法。在一个实施例中，靶可以包括具有吸氢属性的金属元素的单晶薄层，以及处于所述金属元素的单晶薄层中作为填隙核素的氢的第一同位素。所述氢的第一同位素形成包括基本沿着所述金属元素单晶中的晶格通道排列的核素的点阵。在某些实现方式中，靶的厚度可以为5μm或更小。在另外的实施例中，可以将氢的第二同位素基本沿所述金属元素的单晶中的晶格通道射向所述靶。氢的第二同位素可以具有例如大于等于约10keV的能量。