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通过多晶硅吸杂降低CMOS图像传感器白像素的方法

摘要

本发明公开了一种通过多晶硅吸杂降低CMOS图像传感器白像素的方法,针对传统CMOS图像传感器白像素较高的问题,通过优化传统CIS工艺集成方法,利用传统工艺中必不可少的制作多晶硅传输栅的多晶硅层,在退火过程中吸附硅外延层中的金属杂质,使光电二极管中的金属杂质含量得以降低,从而有效降低了CMOS图像传感器中白像素的数量。

著录项

  • 公开/公告号CN105185696B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201510621245.0

  • 发明设计人 范晓;陈昊瑜;王奇伟;

    申请日2015-09-25

  • 分类号

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-06

    授权

    授权

  • 2016-01-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20150925

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    公开

    公开

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