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从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置

摘要

本发明提供从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置。在该从膜层叠体去除异物的异物去除方法中,一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送,一边在利用配置在上述膜层叠体的宽度方向上的两个端缘中的一侧的粘合辊对夹持该两个端缘中的至少一个端缘的情况下使上述膜层叠体通过至上述下游侧,由此去除异物。

著录项

  • 公开/公告号CN104338712B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201410374866.9

  • 发明设计人 田村透;古泽修也;

    申请日2014-07-31

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-30

    授权

    授权

  • 2016-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B7/00 申请日:20140731

    实质审查的生效

  • 2015-02-11

    公开

    公开

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