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公开/公告号CN105658413B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-16
原文格式PDF
申请/专利权人 独立行政法人产业技术综合研究所;
申请/专利号CN201480056987.7
发明设计人 尹成圆;朴相天;广岛洋;高木秀树;铃木健太;
申请日2014-08-29
分类号B29C59/02(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11240 北京康信知识产权代理有限责任公司;
代理人田喜庆;吴孟秋
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 10:09:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-16
授权
2016-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):B29C59/02 申请日:20140829
实质审查的生效
2016-06-08
公开
机译: 压印法形成聚酰亚胺精细图案的方法
机译: 利用氮杂苯官能化的聚合物形成精细图案的方法以及利用精细图案形成方法制造基于氮化物的半导体发光器件的方法
机译:聚酰亚胺的低温微成型<使用光敏/可溶性嵌段共聚的聚酰亚胺通过热/光学纳米压印法的纳米/微图案成型法>
机译:在显影过程中利用聚合物反应的精细图案形成方法-基于反应显影图像形成的光敏工程塑料-
机译:热纳米压印法双面形成精细铜图案
机译:光明用水平无机杂交图案薄膜在玻璃和脂环族PI膜上开发铜精细布线形成方法
机译:用于功能电子和生化传感的高级纳米压印图案。
机译:利用压印微图案技术的透明电磁屏蔽膜
机译:纳米压印功能有机聚合物的精细图案转移
机译:基于红外脉冲激光加热的纳米图案混合纳米压印光刻法