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一种具有电磁屏蔽效能的垂直互连结构及其制作方法

摘要

本发明公开了一种具有电磁屏蔽效能的垂直互连结构及其制作方法,该结构包括:实心金属通柱、金属屏蔽层和金属氧化物;其中:实心金属通柱为封装基板内任意层间垂直互连的金属导体;金属屏蔽层为包围实心金属通柱的环形金属屏蔽层;金属氧化物为实心金属通柱和金属屏蔽层之间的环形绝缘介质。该方法包括:第一次光刻在一基板上下表面形成垂直互连结构的图形掩膜;进行致密型阳极氧化;去除垂直互连结构的图形掩膜,第二次光刻在基板上下表面形成实心金属通柱的图形掩膜和金属屏蔽层的图形掩膜;进行穿透型阳极氧化;去除实心金属通柱的图形掩膜和金属屏蔽层的图形掩膜。本发明的垂直互连结构及其制作方法,有效解决了电磁泄漏问题。

著录项

  • 公开/公告号CN104900628B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海航天电子通讯设备研究所;

    申请/专利号CN201510348146.X

  • 发明设计人 谢慧琴;陈靖;丁蕾;刘凯;王立春;

    申请日2015-06-23

  • 分类号

  • 代理机构上海汉声知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡晶

  • 地址 200082 上海市杨浦区齐齐哈尔路76号

  • 入库时间 2022-08-23 10:08:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-16

    授权

    授权

  • 2016-05-04

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L23/525 登记生效日:20160415 变更前: 变更后: 申请日:20150623

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-12-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/525 申请日:20150623

    实质审查的生效

  • 2015-09-09

    公开

    公开

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