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具有CrTi/NiP双层结构的磁薄膜介质

摘要

公开了一种薄膜磁介质结构,该结构具有非晶钛化铬(CrTi)和其后的磷化镍(NiP)非晶层的双层结构。在淀积NiP之后,使其暴露到氧中形成氧化的表面。优选地将垫层直接淀积到氧化的NiP表面上。CrTi/NiP双层结构促进了在钴合金磁层中优良的平面内结晶取向,并允许使用对晶粒尺寸和分布提供良好控制的超薄铬垫层。当CrTi/NiP双层结构与圆周纹理衬底、优选玻璃结合时,产生了高Mrt取向率(OR)。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-11-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/66 授权公告日:20061206 终止日期:20100830 申请日:20040830

    专利权的终止

  • 2006-12-06

    授权

    授权

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

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