一种湿法化学刻蚀制备黑硅的方法

摘要

本发明公开了一种湿法化学刻蚀制备黑硅的方法，包括以下步骤：（1）用氢氟酸和硝酸混合液或强碱去除硅片表面的损伤层；（2）用金属盐和氢氟酸混合液在硅片表面沉积金属，或利用磁控溅射方法在硅片表面形成一层贵金属膜；（3）用氢氟酸和高碘酸钾混合液刻蚀硅片；（4）用氨水和双氧水混合液清洗硅片或氢氟酸和硝酸混合液清洗硅片去除金属，即可制得黑硅。采用本发明制备的黑硅，成本低廉、工艺稳定，黑硅结构可控且可获得极低的反射率。