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场致发射型电子源及其制造方法以及用该电子源的显示器

摘要

本发明的场致发射型电子源10,设有n型硅衬底1、直接或通过非掺杂多晶硅层3在n型硅衬底1上形成的强电场漂移层6、以及强电场漂移层6上形成的为金薄膜的导电性薄膜7。n型硅衬底1背面设有欧姆电极2。其中,从n型硅衬底1注入强电场漂移层6的电子,在强电场漂移层6内向正面漂移,经过导电性薄膜7逸出。强电场漂移层6,通过靠阳极氧化处理使n型硅衬底1上形成的多晶硅3多孔化,再用稀硝酸等氧化形成。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-01-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 1/304 授权公告日:20061025 终止日期:20151116 申请日:19991116

    专利权的终止

  • 2006-10-25

    授权

    授权

  • 2001-05-30

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-05-24

    公开

    公开

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