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一种Cr（VI）阴离子印迹材料的制备方法及其用途

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本发明提供了一种Cr(VI)阴离子印迹材料的制备方法及其用途，该材料可用于选择性吸附Cr(VI)阴离子。该材料以甲基丙稀酰氧丙基三甲氧基硅烷修饰的SBA‑15为基底，以重铬酸钾为模板分子，以甲基丙烯酸和4‑乙烯基吡啶为双功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂，偶氮二异丁腈为引发剂制备而成。将该材料用于选择性吸附Cr(VI)阴离子具有很好的吸附效果；印迹聚合物接枝于介孔二氧化硅(SBA‑15)表面，避免了因模板离子包埋过深而洗脱困难的问题；制备的Cr(VI)阴离子印迹聚合物应用于动态吸附实验，还表现出优异的再生性能。

著录项

公开/公告号CN104945580B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-02-27

原文格式PDF
申请/专利权人江苏大学;
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申请/专利号CN201510420926.0
发明设计人刘燕;胡兆勇;刘占超;孟敏佳;
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申请日2015-07-16
分类号C08F292/00(20060101);C08F230/08(20060101);C08F220/06(20060101);C08F226/06(20060101);C08F222/14(20060101);C08F2/44(20060101);C08J9/26(20060101);B01J20/30(20060101);B01J20/26(20060101);
代理机构
代理人
地址 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号
入库时间 2022-08-23 10:07:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-07-05

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08F292/00 授权公告日:20180227 终止日期:20180716 申请日:20150716

专利权的终止
2018-02-27

授权

授权
2015-11-04

实质审查的生效 IPC(主分类):C08F292/00 申请日:20150716

实质审查的生效
2015-09-30

公开

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