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一种基于完备局部凸凹模式的光照人脸识别方法

摘要

本发明涉及一种基于完备局部凸凹模式的光照人脸识别方法,属模式识别领域。首先对图像进行分块;对各分块图像进行双线性插值;通过对各图像块中每一像素点的局部差分的符号特征和幅度特征进行编码,得到各图像块的符号特征矩阵、幅度特征矩阵。然后对各图像块的像素点进行编码得到各图像块的中心像素特征矩阵,然后提取此三个特征矩阵的直方图特征,得到三个特征向量,依次连接此三个特征向量得到图像块的直方图特征向量;最后连接各图像块的直方图特征向量得到此原始图像的直方图特征向量,把该特征向量送入最近邻分类器进行分类,来识别原始人脸图像的身份。本发明是基于二阶微分的图像纹理描述方法,能有效的进行光照环境下人脸识别。

著录项

  • 公开/公告号CN104881634B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明理工大学;

    申请/专利号CN201510223240.2

  • 发明设计人 陈熙;晋杰;潘晓露;

    申请日2015-05-05

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 650093 云南省昆明市五华区学府路253号

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-09

    授权

    授权

  • 2018-01-05

    著录事项变更 IPC(主分类):G06K9/00 变更前: 变更后: 申请日:20150505

    著录事项变更

  • 2015-09-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06K9/00 申请日:20150505

    实质审查的生效

  • 2015-09-02

    公开

    公开

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