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在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器

摘要

本发明公开了一种在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器,其中,该在多晶CZT上沉积DLC膜的方法包括:采用磁过滤阴极真空弧沉积方法,在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜;在所述第一层DLC膜之上,采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积用于释放内应力的薄膜过渡层;在所述薄膜过渡层之上,采用磁过滤阴极真空弧沉积方法沉积第二层DLC膜。通过实施本发明,在多晶CZT上沉积DLC膜能够保护多晶CZT,减小漏电流。

著录项

  • 公开/公告号CN105220112B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN201510583996.8

  • 申请日2015-09-14

  • 分类号

  • 代理机构北京名华博信知识产权代理有限公司;

  • 代理人李冬梅

  • 地址 100875 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-16

    授权

    授权

  • 2016-02-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/06 申请日:20150914

    实质审查的生效

  • 2016-01-06

    公开

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