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复杂光环境下基于线结构光的大断面测量方法

摘要

本发明公开了一种复杂光环境下基于线结构光的大断面测量方法,包括以下步骤:提取结构光疑似区域;在所述结构光疑似区域内排除错误识别区域,得到初步识别区域;在所述初步识别区域基础上,进行代表曲线的提取;从影像中提取到的线结构光代表曲线的相方坐标转换为物方坐标;利用相邻两组线结构光所处影像的重合部分线性形态进行拟合,进行多断面曲线的拼接融合。本发明在复杂光环境下,能智能排除复杂环境光和被测物体表面反光介质存在巨大差异的影响,准确的提取被测线结构光轮廓曲线。在确保精度不变的情况下,利用多幅线结构光组合测量快速大断面轮廓。

著录项

  • 公开/公告号CN105136114B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉武大卓越科技有限责任公司;

    申请/专利号CN201510491323.X

  • 申请日2015-08-11

  • 分类号G01C7/00(20060101);G01C11/28(20060101);

  • 代理机构11302 北京华沛德权律师事务所;

  • 代理人房德权

  • 地址 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区武大科技园4路6号

  • 入库时间 2022-08-23 10:04:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-19

    授权

    授权

  • 2016-01-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01C7/00 申请日:20150811

    实质审查的生效

  • 2015-12-09

    公开

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