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光栅及其反光栅、复制光栅以及制造方法

摘要

本发明光栅的刻槽横截面不是薄层形状,而是例如类似正弦波或锯齿形,刻槽底部形状类似平面形。在刻槽周期与从近红外到红外的所用波长为相同数量级的范围内,本发明光栅比相关技术中的全息光栅和小阶梯光栅的光谱性能更出色(在较宽的波长范围内具有平衡的高效率)。当制造本发明光栅的复制品时,由于刻槽深宽比小,因此刻槽彼此间的啮合力也小,由于刻槽底部大,因此脱模剂能充分到达刻槽底部。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-02-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/18 授权公告日:20060830 终止日期:20131228 申请日:20011228

    专利权的终止

  • 2006-08-30

    授权

    授权

  • 2003-09-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-09

    公开

    公开

  • 2002-05-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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