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具有正的场致电阻效应的异质结构材料及其制备方法和用途

摘要

本发明提供一种具有正的场致电阻效应的异质结构材料及其制备方法和用途。所述材料包括:(001)、(011)或其斜切取向的具有反压电特性的PMN‑PT单晶衬底和外延生长于该单晶衬底上的钙钛矿型锰氧化物薄膜,其中,所述PMN‑PT单晶衬底与所述钙钛矿型锰氧化物薄膜的晶格失配度为3.5~4.6%。通过控制薄膜厚度、衬底上纵向偏置电场的大小可以方便地调节极化效应、晶格应变效应以及静电场对薄膜相分离各相的影响,进而调节薄膜面内正的场致电阻效应。本发明提供的可获得正的场致电阻效应的异质结构材料及其制备方法具有设计简单、低功耗、方便易操作等特点,有利于器件应用。

著录项

  • 公开/公告号CN104600191B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN201310529501.4

  • 申请日2013-10-31

  • 分类号

  • 代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭广迅

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2022-08-23 10:04:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-21

    授权

    授权

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/10 申请日:20131031

    实质审查的生效

  • 2015-05-06

    公开

    公开

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