首页> 中国专利> 光学活性四氢呋喃-2-羧酸的制造方法

光学活性四氢呋喃-2-羧酸的制造方法

摘要

本发明提供一种适合于工业的、使用廉价且容易获得的原料来制造高光学活性四氢呋喃-2-羧酸的方法。光学活性四氢呋喃-2-羧酸的制造方法是使(R)-及(S)-四氢呋喃-2-羧酸的混合物与苄胺作用,在碳原子数2~4的脂肪族醇中或在含有碳原子数2~4的脂肪族醇的混合溶剂中晶析纯化,从而制成具有99.0%e.e.以上的光学纯度的(R)-或(S)-四氢呋喃-2-羧酸。

著录项

  • 公开/公告号CN104031009B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东丽精细化工株式会社;

    申请/专利号CN201310522637.2

  • 发明设计人 平贺悠文;森本正雄;西村朋晃;

    申请日2013-10-29

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人杨宏军

  • 地址 日本千叶县

  • 入库时间 2022-08-23 10:01:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-13

    授权

    授权

  • 2014-10-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 307/24 申请日:20131029

    实质审查的生效

  • 2014-10-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 307/24 申请日:20131029

    实质审查的生效

  • 2014-09-10

    公开

    公开

  • 2014-09-10

    公开

    公开

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