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散射光参考像素

摘要

本发明涉及用于确定强度调制的电磁辐射信号的强度调制的强度和/或相对相位的装置,其具有检测器和用于将强度调制的辐射信号成像到检测器上的成像光学装置。与此相比,本发明解决了提供用于减少散射光对强度调制的电磁辐射信号的强度调制的强度和/或相位确定的影响的问题。为了解决此问题,本发明提出,将在开头处提及的类型的装置按照以下方式配置:所述装置具有至少一个散射光参考像素,该至少一个散射光参考像素被布置在成像光学装置的成像区段外且被按以下方式设置:所述像素在操作期间记录强度调制的散射光信号的所测量的值,以及确定设备,所述确定设备按以下方式设置:所述确定设备在操作期间将来自所述成像区段内的检测器的像素矩阵中的至少一个像素的所测量的值作为第一数据输入并将来自至少一个散射光参考像素的所测量值的值作为第二数据输入来处理,处理方式为:所述确定设备确定强度调制的辐射信号的经纠正的强度和/或强度调制的辐射信号的强度调制和该成像区段内的至少该像素的参考信号之间的经纠正的相对相位并将所述强度和/或相位作为数据输出提供。

著录项

  • 公开/公告号CN105518483B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PMD技术有限公司;

    申请/专利号CN201480046567.0

  • 发明设计人 R·兰格;M·阿尔布雷克特;

    申请日2014-08-12

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人段登新

  • 地址 德国锡根

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-26

    授权

    授权

  • 2016-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S 17/32 申请日:20140812

    实质审查的生效

  • 2016-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S 17/32 申请日:20140812

    实质审查的生效

  • 2016-04-20

    公开

    公开

  • 2016-04-20

    公开

    公开

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