首页> 中国专利> 使用沟道自对准硅化物布线层的方法

使用沟道自对准硅化物布线层的方法

摘要

本发明涉及使用沟道自对准硅化物布线层的方法,所揭露的是使用分段式沟道自对准硅化物层(segmented trench salicide layer)而能选择性连接鳍结构(fin structure)的方法以及所产生的装置(resulting device)。具体实施例包括:在基底上提供至少一个栅极结构;提供依垂直方向与至少一个栅极结构相交的第一与第二鳍结构;以及提供自对准硅化物层的第一区段(segment),第一区段沿着水平方向形成并且与第二鳍结构连接以及与第一鳍结构分离。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-29

    授权

    授权

  • 2014-08-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/28 申请日:20131227

    实质审查的生效

  • 2014-08-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/28 申请日:20131227

    实质审查的生效

  • 2014-07-09

    公开

    公开

  • 2014-07-09

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号