公开/公告号CN105316532B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-07-21
原文格式PDF
申请/专利权人 上海核威实业有限公司;
申请/专利号CN201410379834.8
申请日2014-08-04
分类号
代理机构上海申新律师事务所;
代理人刘懿
地址 201615 上海市松江区九亭镇涞坊路2039号2幢
入库时间 2022-08-23 09:58:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-21
授权
授权
2016-03-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C22C 21/00 申请日:20140804
实质审查的生效
2016-03-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C22C 21/00 申请日:20140804
实质审查的生效
2016-02-10
公开
公开
2016-02-10
公开
公开
机译: 使用光压印光刻技术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,用于压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌图案化的光压印光刻设备
机译: 使用光压印光刻技术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,用于压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌图案化的光压印光刻设备
机译: 使用光压印光刻技术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,用于压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌图案化的光压印光刻设备