公开/公告号CN1241063C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子中心;
申请/专利号CN03147402.0
申请日2003-07-07
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人汤保平
地址 100029 北京市德胜门外祁家豁子
入库时间 2022-08-23 08:58:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-09-12
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2006-02-08
授权
授权
2005-03-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-01-19
公开
公开
机译: 使用所制造的X射线掩模结构的半导体装置及半导体装置的制造方式,制造方法,以及使用该X射线掩模结构的X射线曝光装置以及使用该X射线掩模结构的X射线曝光装置。所说的X射线口罩的
机译: 使用X射线掩模结构制造的X射线曝光装置以及使用所述X射线掩模的所述X射线掩模结构的半导体装置为空。
机译: X射线掩模结构,其制造,使用x射线掩模结构的x射线曝光方法,使用x射线曝光装置和掩模及其制造的半导体装置