首页> 中国专利> 灰调掩模以及灰调掩膜中灰调部的缺陷修正方法

灰调掩模以及灰调掩膜中灰调部的缺陷修正方法

摘要

本发明提供一种对于用现有的修正方法实际上很难修正的灰调部中的缺陷,可容易地修正的修正方法。例如,在包含白缺陷的区域中形成修正膜(8)之后,用与正常图形具有相同的灰调效果的形状及/或排列除去上述修正膜(8)的一部分,形成与正常图形(3a、3b)的宽度和位置不同的修正图形(3a’、3b’)。

著录项

  • 公开/公告号CN1258118C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA株式会社;

    申请/专利号CN02108248.0

  • 发明设计人 中山宪治;

    申请日2002-03-28

  • 分类号G03F1/00(20060101);G03F7/26(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-26

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/00 变更前: 变更后: 申请日:20020328

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2006-05-31

    授权

    授权

  • 2003-12-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-10-15

    公开

    公开

  • 2002-07-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号