法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H04N 5/235 授权公告日:20170616 终止日期:20180828 申请日:20140828
专利权的终止
2017-06-16
授权
授权
2017-06-16
授权
授权
2015-01-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/235 申请日:20140828
实质审查的生效
2015-01-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 5/235 申请日:20140828
实质审查的生效
2014-12-24
公开
公开
2014-12-24
公开
公开
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机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 电影摄影机机制,用于选择系列,单次曝光或单次瞬时曝光照片的拍摄