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下壁面内凹的微通道的制作方法

摘要

下壁面内凹的微通道的制作方法,通过在模板上浇筑PDMS生成基准通道,利用离心匀胶机在硅片上甩制获得PDMS薄膜,利用电晕机将二者键合,再将带有矩形凹槽的PDMS固体块键合到薄膜的另一侧,通过矩形凹槽的入口注入液态PDMS使得薄膜向通道内部变形,放置加热板上逐渐凝固,最终生成下壁面内凹的微尺度通道,而且内凹结构的长度和位置可以分别通过改变凹槽的尺寸和键合位置来控制。本发明可以制作下壁面内凹的微尺度通道,所涉及的制作和处理方法成熟,可靠性可以得到保证,并且操作过程简单。

著录项

  • 公开/公告号CN105036061B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201510379969.9

  • 发明设计人 刘赵淼;王翔;逄燕;

    申请日2015-07-01

  • 分类号

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人沈波

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-23

    授权

    授权

  • 2015-12-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81C 1/00 申请日:20150701

    实质审查的生效

  • 2015-11-11

    公开

    公开

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