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一种光学元件用透明衍射薄膜的旋涂制备方法

摘要

一种光学元件用透明衍射薄膜的旋涂制备方法,其主要包括清洗基底、放置基底、涂胶、静置、匀胶、二次涂胶、二次匀胶、第N次涂胶、第N次匀胶、静置48小时以上、烤胶、揭胶等步骤。本发明方法可用于制备口径≤300mm、面形精度PV<0.5μm、膜层厚度可控的多台阶或连续台阶透明膜基衍射光学元件,解决制备过程中面形精度低、膜层厚度不可控、透明膜基衍射光学元件衍射效率低的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN104834033B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京空间机电研究所;

    申请/专利号CN201510169302.6

  • 申请日2015-04-10

  • 分类号

  • 代理机构中国航天科技专利中心;

  • 代理人陈鹏

  • 地址 100076 北京市丰台区南大红门路1号9201信箱5分箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    授权

    授权

  • 2015-09-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/00 申请日:20150410

    实质审查的生效

  • 2015-08-12

    公开

    公开

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