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公开/公告号CN104942288B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-04-12
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉大学;武汉飞恩微电子有限公司;
申请/专利号CN201510356527.2
发明设计人 刘胜;付兴铭;曹钢;严晗;刘亦杰;郑怀;王小平;杨军;
申请日2015-06-25
分类号
代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人胡艳
地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
入库时间 2022-08-23 09:55:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-12
授权
2015-11-04
实质审查的生效 IPC(主分类):B22F 3/105 申请日:20150625
实质审查的生效
2015-09-30
公开
机译: 基于飞秒激光的多模态成像源,用于皮秒脉冲生成
机译: 用飞秒激光束和皮秒激光束投射掩膜的装置,包含限幅器,掩膜和透镜系统
机译:使用纳秒,皮秒和飞秒激光脉冲清洁人工弄脏的纸
机译:皮秒脉冲在F-2(-)中的放大:皮秒和纳秒激光脉冲同步泵浦LiF晶体
机译:用纳秒,皮秒和飞秒激光脉冲完整表征钛掺杂蓝宝石晶体的损伤阈值
机译:以高光谱分辨率和高时间分辨率测量皮秒至纳秒脉冲的电场。
机译:纳秒皮秒和飞秒激光烧蚀沉积的Ge-Sb-Te硫族化物薄膜
机译:使用纳秒,皮秒和飞秒激光激光消融聚丙烯薄膜
机译:强皮秒光脉冲与材料相互作用的研究:用纳秒和皮秒光脉冲观察Gaas中的两个光子电导率