法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 1/11 授权公告日:20060104 终止日期:20171113 申请日:20011113
专利权的终止
2006-01-04
授权
授权
2006-01-04
授权
授权
2004-01-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-01-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-06-19
公开
公开
2002-06-19
公开
公开
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机译: 形成抗反射膜的组合物,由形成抗反射膜的组合物制成的抗反射膜以及通过使用形成抗反射膜的组合物形成抗蚀剂图案的方法
机译: 用于形成底部抗反射膜的聚合物,用于形成包含相同膜的底部抗反射膜的组合物以及用于使用该膜形成底部抗反射膜的方法
机译: 气相沉积的组合物,使用其形成抗反射膜的方法以及具有抗反射膜的光学元件