公开/公告号CN104471690B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-04-19
原文格式PDF
申请/专利权人 盛美半导体设备(上海)有限公司;
申请/专利号CN201280073426.9
申请日2012-05-24
分类号H01L21/321(20060101);B23H3/02(20060101);B24B57/02(20060101);C25F3/16(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人陆嘉
地址 201203 上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢
入库时间 2022-08-23 09:54:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-27
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/321 变更前: 变更后: 申请日:20120524
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2017-04-19
授权
授权
2017-04-19
授权
授权
2015-05-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/321 申请日:20120524
实质审查的生效
2015-05-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/321 申请日:20120524
实质审查的生效
2015-03-25
公开
公开
2015-03-25
公开
公开
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机译: 脉冲电化学抛光的方法和装置
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