法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-15
授权
授权
2015-08-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20150428
实质审查的生效
2015-07-29
公开
公开
机译: 设计相位光栅图案的方法,该光栅提供用于产生目标图案的最佳照明的最优照明,以及制造包括该相位光栅图案的光掩模系统的方法
机译: 设计相位光栅图案的方法,该光栅提供用于产生目标图案的最佳照明的最优照明,以及制造包括该相位光栅图案的光掩模系统的方法
机译: 包含二维光栅的基质的微阵列和使用该二维阵列检测目标分子的方法